企业简介：
苏州华林科纳半导体设备技术有限公司由中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所与北京华林伟业合资成立。公司成立于2008年3月成立，总投资4500万元，主要从事半导体设备、太阳能光伏设备、液晶湿制程设备、真空设备等的研发、技术推广和生产销售等。公司以中科院纳米所的研究平台和技术团队为技术依托，整合华林伟业在相关行业多年的设备制造经验，研发生产中高端半导体设备。公司以品质为根本，以创新为突破点，走设备研发和工艺研究相结合的道路，使设备能够满足和引领最新的工艺。公司的研发团队由张宝顺博士、王敏瑞博士、张永红博士等十多名在半导体、太阳能光伏及液晶行业有多年设备和工艺经验的专业人士组成。 ...
【详细】
企业介绍
-
邓白氏编码：
（暂无）
-
厂房及办公楼面积：
厂房面积： 1200
平方米，
办公楼面积： 200
平方米
-
企业生产能力： 年产100台套清洗设备
-
上一年度销售收入： （暂无）
-
企业员工总人数： （暂无）
-
企业研发部门人数： （暂无）
-
企业工程师人数： （暂无）
-
企业人员外语能力： （暂无）
-
企业通过认证情况： ISO 9001:2000
-
企业网址： www.hlcas.com
工商注册信息
-
法人代表： 徐竹林
-
营业执照注册号： 320594000114971
-
成立日期： 2008
-
营业期限： 2008-04-03--2018-04-03营业结束期限
-
注册资本： 14000000元
-
注册地址： 苏州工业园区独墅湖高教区若水路398号
-
税号： （暂无）
-
经营范围： 主要产品：LCD液晶清洗腐蚀设备 ，LCD液晶玻璃基板清洗腐蚀减薄设备，LED晶片清洗设备 ，SPM清洗机，TFT-LCD半自动腐蚀减薄设备，半导体器件清洗设备，半自动硅片显影设备，氮气储存保护柜，液晶玻璃基板清洗机，全自动台面腐蚀机，在线加热，自动装片机，半自动硅片腐蚀机，化学湿台，全自动晶片清洗机，全自动硅片清洗设备，石英管清洗设备，微电子半导体清洗设备-全自动硅片显影机，液晶湿法清洗设备，双仓硅片甩干机，六工位全自动冲洗甩干机，单片清洗机，石英钟罩清洗机，导片机，全自动石英炉管清洗机，单晶圆清洗机，自动装片设备，全自动半导体芯片湿法清洗设备硅片边缘腐蚀机，硅片切片后清洗机（全自动硅片清洗机），扩散后清洗设备，扩散前清洗设备，平板式硅片清洗机，清洗制绒设备，全自动硅片腐蚀机，全自动磷硅玻璃腐蚀机，石英管清洗机，石英炉管清洗机，手动硅料腐蚀机，手动清洗台，甩干机，单晶圆清洗机，单片清洗机，导片机，石英钟罩清洗机，全自动硅片清洗设，自动分选装片设备，全自动半导体芯片清洗设备，全自动石英炉管清洗机等。
- 电话： 0512-62872541
- 传真：0512-62872543
- 网站： www.hlcas.com
- 邮政编码： 215000
- 公司地址： 苏州工业园区-独墅湖高教区若水路398号
该公司暂无其他联系人联系方式。
我要留言
